산업통상부, 반도체 공정 핵심 EUV 장비, 국내 도입 최대 25일 빨라진다.

▲ EUV 장비 검사절차 개선 전후 비교

[한국기자연합회=강민구 기자] 정부가 반도체 핵심 공정에 사용되는 EUV(극자외선) 장비의 국내 도입 절차를 대폭 간소화한다. 이에 따라 삼성전자·SK하이닉스 등 국내 반도체 기업들은 첨단 생산라인 구축에 필수적인 EUV 장비 도입 시 검사 등 소요기간이 기존 34일에서 9일로 최대 25일 단축될 전망이다.

산업통상부(장관 김정관, 이하 산업부)는 6.2(화) 국무회의에서 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조장비에 대해 고압가스 일반제조시설이 아닌 ‘특정설비’ 기준을 적용하도록 하는 것을 주요내용으로 하는'고압가스 안전관리법 시행령'일부개정안이 의결됐다고 밝혔다.

이번 제도 개선으로 EUV 장비 도입 기간은 장비당 최대 25일 단축되고, 해외 공인검사기관 내압·기밀 검사비용도 장비당 약 5억원 절감될 것으로 예상된다. 이를 통해 국내 반도체 기업들이 첨단 제조장비를 적기에 도입하고 신속히 가동함으로써 우리 반도체 산업의 초격차 유지에 기여할 것으로 기대된다.

그간 반도체 공정에 필수적인 EUV 장비는 내부에 고압가스 배관 및 장치가 포함되어 현행 법령상 ‘고압가스 제조설비’로 분류되어 왔다. 이에 따라 EUV 장비 설치시마다 기술검토와 검사를 받아야 했고, 이 과정에서 장비 도입이 지연되고 기업 부담이 발생한다는 현장의 의견이 제기되어 왔다.

산업부는 제도 개선을 위해 반도체 업계와 여러 차례 협의를 거쳐 의견을 수렴하고, 글로벌 안전기준과 국내 안전관리 체계 간 정합성을 면밀히 검토하여 EUV 장비를 기존 ‘고압가스 제조시설’에서 ‘특정설비’로 전환하여 안전성을 관리하는 이번 개정안을 마련한 것이다.

아울러 시행령과 함께 시행규칙 개정도 함께 추진하여, EUV 장비 규제 합리화 외에도 ➊ 물과 세탁세제 대신 이산화탄소를 사용해 세탁하는 친환경 ‘액화 이산화탄소 세정설비’가 국내 최초 상용화 될 수 있도록 맞춤형 검사기준을 신설하는 등 규제를 합리화하고, ➋ ‘위험성이 낮은 고압가스시설’의 안전관리자 선임기준을 현실에 맞게 정비하는 내용 등도 포함했다.

본 개정안은 차주 중 공포 후 즉시 시행될 예정이며, 김정관 산업부 장관은 “금번 법령 개정은 안전 확보와 첨단산업 경쟁력 강화를 동시에 달성하기 위한 대표적인 규제혁신 사례”라며 “앞으로도 글로벌 기준에 부합하는 합리적 안전관리 체계를 통해 첨단산업 투자를 적극 지원해 나가겠다”고 밝혔다.

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